近日有消息称，“华为太难了，拥有最强的国产芯片设计团队海思还不行，还要琢磨研究光刻相关技术...国内产业链在这些方面帮不上华为，华为只能自己来了！”

该爆料者还表示，希望华为能够找到顶尖领域的人才，早日攻克芯片问题。

从这条微博附上的招聘截图来看，华为招聘“光刻工艺工程师”要求全职、不限经验，工作地点在东莞松山湖。不过截图上没有显示该职位的工资等信息。

针对此消息，《国际电子商情》在华为官网上没有找到该职位的招聘启事，在某招聘网站上倒是有一条华为该职位的招聘，不过该职位的招聘已经关闭。

而华为方也尚未就此事做出回应。

无巧不成书，其实华为早在4年前已经申请了一项关于光刻设备的专利。

据媒体从“中国专利公布公告”上查询得知，该专利于2016年9月9日在中国专利局申请，申请人是华为技术有限公司，发明人为弗洛里安·朗诺斯。换言之，华为早在4年前就开始着手光刻机产业的相关研发。

华为在专利文档中表示，本发明实施提供了一种光刻设备和光刻系统， 通过使用光开关和至少两个光子器件在基材表面形成干涉图案，可以避免平移基材，从而提高了光刻处理的效率和干涉图案的精确度。

据悉，当前光刻设备通过单个聚焦透镜形成干涉图案，当需要在较大的基材表面上制备周期性图案时，需要通过平移步进装置平移承载基材的支架并需要复杂的对准步骤， 由于平移步进装置价格昂贵且精确度不高， 现有的光刻设备存在处理效率较低以及形成的图案精确度不高的问题。

来源：国际电子商情